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納米涂料分散機

納米涂料分散機,上海思峻應對這種現狀,研發(fā)并生產(chǎn)出全新型的研磨+分散設備,研磨和分散一體化的設備,先研磨將二級團聚體打開(kāi),再分散,從而還原原始的納米粒徑。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2022-09-29
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:795
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產(chǎn)品詳情

納米涂料分散機,水性涂料分散機,納米水性涂料分散機,涂料分散機,涂料研磨分散機

一應般來(lái)說(shuō),納米涂料必須滿(mǎn)足兩個(gè)條件:首先,涂料中至少有一相的粒徑尺寸在1—100nm的粒徑范圍;其次,納米相的存在使涂料的性能要有明顯的提高或具有新的功能。傳統高速分散機的主要作用是將涂料研磨漿進(jìn)行預混合?,F代化涂料原材料中的顏料、填料都是超細化易分散的,加上潤濕分散機的運用,許多涂料不必進(jìn)行研磨,僅僅使用高速分散機就可以達到規定的細度。但是對于納米涂料的生產(chǎn),傳統的高速分散機是無(wú)法到達要求的,細度的要求無(wú)法滿(mǎn)足。

  

納米涂料的難點(diǎn)是:粉體分散到液體里面,容易形成二級團聚體,會(huì )將原本納米級的粒徑變成大的團聚體,從而難以分散細化,影響zui終產(chǎn)品性能。
    

上海思峻應對這種現狀,研發(fā)并生產(chǎn)出全新型的研磨+分散設備,研磨和分散一體化的設備,先研磨將二級團聚體打開(kāi),再分散,從而還原原始的納米粒徑。

結合南昌某客戶(hù)的案例,使用上海思峻GMSD2000系列研磨分散機設備對納米涂料進(jìn)行處理,研磨分散3遍,即可還原納米級粒徑,客戶(hù)很是驚喜和認可。  

 

GMD2000系列研磨分散設備是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)。


研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。


第一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。


第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經(jīng)驗工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿(mǎn)足預期的應用。

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