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產(chǎn)品中心/ products
氫氧化鎂阻燃劑高速分散機是將膠體磨和分散機一體化的設備,先研磨后分散機,因為氫氧化鎂分散到水中或者溶劑當中,會(huì )形成二級團聚體,軟團聚。
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隨著(zhù)高分子材料工業(yè)的發(fā)展,塑料、橡膠、纖維等合成高分子材料越來(lái)越廣泛的用于建筑、化工、軍事及交通等領(lǐng)域。但大部分高分子材料均易于燃燒,在很多應用領(lǐng)域中,需要添加阻燃劑以降低其燃燒性及燃燒速度,從而達到預防火災、減緩火勢蔓延的密度。近年來(lái),高分子阻燃技術(shù)受到性的關(guān)注阻燃劑以及成為*于增塑劑的第二大高分子材料用助劑。
作為重要的無(wú)極阻燃劑產(chǎn)品,氫氧化鋁和氫氧化鎂由于環(huán)境友好、阻燃性強而倍受人們青睞。與氫氧化鋁相比,氫氧化鎂具有熱穩定性高、成炭效率高和降酸能力強等特點(diǎn)??梢詮V泛的應用于聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯及不飽和樹(shù)脂等高分子材料的阻燃和消煙。
然而,要獲得超細的氫氧化鎂助燃劑混懸液就必須使用高品質(zhì)的分散設備,傳統的分散設備,一方面無(wú)法將氫氧化鎂漿料進(jìn)一步細化,另一方分散效果不佳。上海SGN結合多家阻燃劑廠(chǎng)家,可知,采用SGNGMSD2000系列研磨分散機對氫氧化鎂漿料進(jìn)行進(jìn)一步的研磨和分散,粒徑更小,分散更均勻。
氫氧化鎂阻燃劑分散機是將膠體磨和分散機一體化的設備,先研磨后分散機,因為氫氧化鎂分散到水中或者溶劑當中,會(huì )形成二級團聚體,軟團聚。需要先將團聚體打開(kāi)再進(jìn)行分散。SGN研磨分散機二級工作組,轉速高達14000rpm,剪切力強,分散更*。
GMSD2000系列研磨分散設備是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)
GMSD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
D一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
的特點(diǎn):
① 線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說(shuō)的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。
GMSD2000 三級乳化機參數表
SGN高剪切乳化機選型表:
| 標準流量(H2O) | 輸出轉速 | 標準線(xiàn)速度 | 馬達功率 | 進(jìn)出口尺寸 |
型號 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
GMSD 2000/4 | 400 | 18000 | 51 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD 2000/5 | 1500 | 13500 | 51 | 7.5 | DN40 /DN 32 |
GMSD 2000/10 | 4000 | 9257 | 51 | 22 | DN50 / DN50 |
GMSD 2000/20 | 10000 | 3664 | 51 | 37 | DN80 /DN 65 |
GMSD 2000/30 | 60000 | 1825 | 51 | 55 | DN150 /DN 125 |
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