一、產(chǎn)品名稱(chēng)：溶液高速高剪切膠體磨，溶膠膠體磨，溶膠研磨機，溶膠研磨分散機，溶膠高速膠體磨，溶液膠體磨廠(chǎng)家，進(jìn)口膠體磨，上海膠體磨設備

上海思峻高剪切膠體磨采用分體式結構，轉速高達14000rpm，線(xiàn)速度41m/s，剪切研磨能力強，透過(guò)膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時(shí)受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。

溶膠是屬于膠體化學(xué)范疇，而是研究這些微小顆粒（膠體顆粒）分散體系的科學(xué)，通常規定膠體顆粒的直徑大小為1-100nm(也有人主張1-1000nm)。并把直徑為1-100nm的分散相粒子在分散介質(zhì)里的分散，并且分散相粒子與分散介質(zhì)之間有明顯物理分界面的稱(chēng)之為膠體分散體系。習慣上，把分散介質(zhì)（分散劑）為液體的膠體分散體系稱(chēng)為液溶膠或溶膠。
                    

液溶膠是指通過(guò)水解和聚合作用，形成的有機或無(wú)機的納米或微米級的粒子，這些粒子通常帶有電荷，并由于電荷作用，吸附一層溶劑分子，形成由溶劑包覆的納米或微米粒子，即膠體粒子，這些膠體粒子由于帶有電荷而相互排斥，從而能以懸浮狀態(tài)存在于溶劑中，即形成溶膠；膠體粒子由于失去電荷，或者包覆在外圈的溶劑層被破壞，膠體粒子發(fā)生聚合，溶膠發(fā)生固化即形成凝膠。

二、由于制備溶膠要求分散質(zhì)以交替狀態(tài)分布于介質(zhì)中，而且這種分散體系能在穩定劑存在下能夠穩定下來(lái)。從粒子大小看，由于溶膠粒子小于可濾出的粒子，而大于一般溶液的小分子，故可采用兩種途徑達到：將大塊物質(zhì)利用膠體磨等手段，磨成直徑0.1—1μm的粒子，即分散法；或使更小粒子凝聚成膠體粒子，即凝聚法。

分散法：可以采取機械研磨，超聲作用，電分散或化學(xué)法等。

凝聚法：使小分子聚集成膠體粒子ZUI簡(jiǎn)單的辦法是更換溶劑法，例如將乙醇的硫磺溶液倒入水中，形成硫磺的水溶液；也可以利用化學(xué)反應生成難溶性產(chǎn)物。在此，難溶性化合物從飽和溶液中吸出的過(guò)程中，使其停留在膠粒大小階段。因為晶體粒子成長(cháng)決定于兩個(gè)因素：晶核生長(cháng)速度W和晶體生長(cháng)速度Q，所得粒子分散度與W/Q之比值成正比，那些有利于晶核大量生長(cháng)而減慢晶體生長(cháng)速度的因素都有利于溶膠形成（不利于得到大晶體）

膠體磨GM2000系列特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外，GM在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱(chēng)做濕磨。在錐形轉子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉使溶液出現渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。GM2000整機采用Z佳幾何機構的研磨定轉子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種需求。
            


三、SGN膠體磨結構：三道磨碎區：一級為粗磨碎區，二級為細磨碎區，三級為超微磨碎區。我們的磨頭的結構：溝槽的結構式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨，而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。

四、GM2000系列的特點(diǎn)：

1、定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。

2、齒列的深度：從開(kāi)始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。

3、溝槽的結構式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

五、SGN/思峻膠體磨型號參數表：

SGN膠體磨 GM2000膠體磨選型表：

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