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納米氧化鋅研磨分散機

納米氧化鋅研磨分散機,氧化鋅德國進(jìn)口分散機可以處理量大,運轉更平穩,拆裝更方便,適合工業(yè)化在線(xiàn)連續生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料100%通過(guò)分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩定性。

  • 產(chǎn)品型號:GMSD2000/4
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2022-09-28
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:1454
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產(chǎn)品詳情

 納米氧化鋅分散機,納米氧化鋅德國進(jìn)口分散機,納米氧化鋅研磨分散機,高剪切分散機,納米分散機,研磨式分散機

 

SGN分散機可以處理量大,運轉更平穩,拆裝更方便,適合工業(yè)化在線(xiàn)連續生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料通過(guò)分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩定性。

 

 

納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀的新型高功能精細無(wú)機產(chǎn)品,使其在陶瓷、化工、電子、光學(xué)、生物、醫藥等許多領(lǐng)域有重要的應用價(jià)值,具有普通氧化鋅所無(wú)法比較的特殊性和用途。(價(jià)格電議薛:,,公司有樣機可實(shí)驗?。?/span>

        
納米級粉末的分散,普遍會(huì )出現物料團聚的現象,導致粒徑變大。SGN研磨式分散機,將膠體磨和分散機一體化結合,先研磨后分散機,解決團聚問(wèn)題!

GMD2000系列研磨式分散設備是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)
                               

GMD2000系列研磨式分散機的特點(diǎn):

   線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說(shuō)的濕磨

   定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

   定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

   在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

   高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

 

GMD2000系列設備選型

研磨分散機

流量*

輸出

線(xiàn)速度

功率

入口/出口連接

類(lèi)型

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMD2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

GMD 2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

GMD 2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

GMD 2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

GMD 2000/30

20000

1,420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

60000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調節到zui大允許量的10%。

 

1.表中上限處理量是指介質(zhì)為的測定數據。

2.處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。

4.本表的數據因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數以提供的實(shí)物為準.
 

 

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